当前位置：首页 > 产品中心
制ito粉设备
制ito粉设备
立式砂磨机在ITO粉体制备中的工业应用要闻资讯
2021年9月7日 在氧化铟锡制备方法中，除去国内外较为成熟的液相化学共沉淀法和均相共沉淀法等化学合成法，机械研磨法一直是一种简单、高效且成本最低的制备方法，但是由于传统卧式 砂磨机 使用超细研磨介质时极易堵网、卡珠，很 近年来我国引进了多 条 ITO 膜生产线, 为制备高性能的膜, 必须 优先发展高质量的 ITO 靶材, 但其靶材由国 外供给, 国外对 ITO 靶材制备技术严密封锁 为此, 有必要对现有 ITO 靶材生产技术 铟锡氧化物 (ITO) 靶材的应用和制备技术百度文库2016年11月9日 【专利摘要】一种制备高性能ITO造粒粉的方法，包括以下步骤：称取质量比为9：1的纯度大于9999%的氧化铟和氧化锡纳米粉末，加入去离子水和分散剂，配成一定固含 一种制备高性能ito造粒粉的方法 X技术网2021年8月5日 ITO复合粉体的制备方法有很多种,常用的方法有共沉淀法、水热法、低温制备法、溶胶凝胶法、喷雾燃烧法 、减压挥发氧化法等。其中共沉淀法工艺流程简单, 实验条件也较 纳米铟锡氧化物ITO粉制备方法行业资讯铋粒碲粉铟箔低
制ito粉设备
2013年1月24日 ITO薄膜的制备主要集中于采用溅射法与沉积法直接在材料上形成功能性的薄膜从经济效益上看这种制备工艺限制了ITO粉体的应用。目前制备纳米ITO粉的方法有很多种如溶 2019年1月18日 针对背景技术中存在的问题，本发明提出了一种金属铟和金属锡制备超细ito粉的方法，采用热球磨机作为反应设备，完成金属铟和锡的同步氧化和氧化物同步细化，实现超细氧化铟和锡粉的经济高效、可控稳定生产。一种金属铟和金属锡制备超细ITO粉的方法与流程 X 2020年10月23日 一种实心球形ito造粒粉的制备方法，先将氧化铟粉末、氧化锡粉末与去离子水混合制成浆料，之后向其中加入分散剂并研磨充分、加入粘结剂并混合均匀，然后加热浆料或调节浆料的ph值使浆料的粘度控制 一种实心球形ITO造粒粉的制备方法与流程 X技术网2016年1月4日 氧化铟锡（ indiumtinoxide ）简称 ITO，ITO 靶材是一种功能陶瓷材料，主要用于制造 ITO 透明导电膜玻璃。 以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米级 ITO 复合粉体。纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备
纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备北京化工大学
2021年2月1日 氧化铟锡（indiumtinoxide）简称ITO，ITO靶材是一种功能陶瓷材料，主要用于制造ITO透明导电膜玻璃。以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米级ITO复合粉体。粉 李锦桥设计出制备ITO靶材的专用设备，将ITO粉体冷等静压压成大块溅 射靶坯体，然后在01~05MPa纯氧环境中，在1500~I600C高温烧结，可以生产 密度达理论密度95%的溅射靶。这种高温高氧烧结炉已由浙江长兴益丰特种溅射 靶窑业有限公司研制成功。ito靶材的制备 百度文库2016年11月9日 IT0(TindopedIndiumOxide)即氧化铟锡，是一种η型半导体材料，使用ITO革巴材，通过真空镀膜等途径制备的ITO薄膜已成为TFT1XD、PDP等平板显示器不可或缺的关键材料，也促使ITO靶材发展成令人瞩目的战略性高科技产业。靶材的品质直接决定薄膜性能的好坏，但国内镀膜厂家使用的高端ITO靶材一直依赖进口 一种制备高性能ito造粒粉的方法 X技术网2016年5月17日 图1为制备ITO粉体实验装置图。图1 微波强化喷雾热解法制备ITO粉体的实验装置图 Fig 1 Schematic diagram of the experimental setup preparing ITO by microwave enhanced ultrasonic spray pyrolysis 122制备ITO粉体工艺流程图 制备ITO粉体工艺流程如图2所喷雾热解法制备ITO粉体的研究*参考网 fx361cc
高致密ITO靶材制备工艺的研究现状及发展趋势中国期刊网
2021年6月17日 其主要缺点为：靶材尺寸受设备压力和压缸的限制，制备大尺寸靶材困难。 13粉浆浇筑成形 粉浆浇注是将粉末与其特定的液体制成一定浓度的悬浮粉浆，注入具有所需形状的模具中，通过模具吸水作用使悬浮液固化，制得具一定形状的素坯的一种成形方法。粉煤灰 制砖设备 生产的产品强度，可达MU20，生产工艺技术水平较高，能耗低，产品广泛用于建筑基础和内外墙体。 粉煤灰制砖设备可大量利用粉煤灰，而且可以利用湿排灰。每生产1m砖至少可用800kg粉煤灰，一个年产5000万块的砖厂可用掉6万吨粉煤灰。这无 粉煤灰制砖设备百度百科2021年1月5日 目前ito粉体的制备方法主要包括化学共沉淀法、水热合成法、溶胶凝胶法、喷雾热分解法等：化学共沉淀法是将铟锡盐溶解制备盐溶液，以碱性溶液为沉淀剂使金属阳离子沉淀得到前驱体，再进行干燥和煅烧制得ito粉体；水热合成法是将处于碱性环境的铟锡盐溶液一种单分散纳米ITO的制备方法与流程 X技术网介绍 了ITO 粉 末 的 制 备 方 法 如 机 械 混 合 法、喷 雾 热 分 解 法、喷 雾 燃 烧 法、化 学 共 沉 淀 法、金 属 醇 盐 水 解 法、水 热 合成法等以及ITO 靶材的制备工艺。比较和分析了ITO 粉体和靶材各制备工艺的优缺点。最后 提 出 了 制 备 高 品 质 高密度氧化铟锡ITO靶材制备工艺的研究进展百度文库
一种金属铟和金属锡制备超细ITO粉的方法与流程 X技术网
2019年1月18日 本发明属于材料冶金领域，更具体的，涉及一种热球磨氧化制备超细ITO粉末的方法。背景技术铟锡氧化物(Indiumtinoxide，ITO)具有高透光率、低电阻率、制膜硬度高、良好化学稳定性和蚀刻性能等优点，广泛应用于液晶显示器、太阳能电池、薄膜发光器件、传感器等尖端制造领域。目前的制备方法都是 2019年8月20日 粉末冶金最核心的竞争力就是粉体，能够独立生产高品质稳定的粉体的公司，会在未来占有一席之地。2、大尺寸烧结工艺 ITO靶材的另一个难点就是烧结工艺，精准的烧结工艺是烧结高品质靶材的关键。3、配套设备浅谈ITO靶材 知乎2024年9月5日 触摸屏技术是现代智能设备的核心交互方式，电容式触摸屏广泛应用于、平板和其他电子设备中。ITO靶材作为透明导电电极，决定了触摸屏的工作效率和体验质量。ITO在电容式触摸屏中的工作原理 电容式触摸屏利用电场变化来感应用户的触摸动作。ITO靶材用途全揭秘：显示技术核心材料，光伏与传感器的关键 2012年3月23日 利用自制的设备对粉体的电性能进行了检测，随着掺杂量的增大，粉 体的电阻呈现先减小 不同掺杂量在不同条件下制得的ITO粉体均符合In203的立方结 构，粒径均在40nm左右，掺入Sn后引起晶格畸变，XRD衍射峰向小 角度偏移， 导致晶格和晶胞 新型功能材料ATO、ITO制备工艺及其形貌和电性能的研究
一种混合法制备ITO造粒粉体的方法与流程 X技术网
2020年5月12日 本发明属于氧化铟锡复合粉体制备技术领域，涉及一种混粉法制备ito造粒粉体的方法，特别涉及一种高均匀性、高活性的ito造粒粉体的制备方法。背景技术ito靶材是制备ito导电玻璃的重要原料，通常是采用磁控溅射的方法将ito靶材制备成ito薄膜，其性能是决定导电玻璃产品质量、生产效率、成品率的 2024年10月7日 k455纳米ITO粉末参数k455纳米ITO粉末参数及最新价格，公司客服7*24小时为您服务，售前/ 上海东庚设备工程技术有限公司 湖南粉 体装备研究院有限公司 复纳科学仪器（上海）有限公司 四川铁匠科技有限公司 纳米ITO粉末参数价格中国粉体网铟锡氧化物(ITO)纳米粉体具有粒径小、比表面积大、分散性好、杂质少的特点,是制备性能良好的ITO薄膜的原料本文介绍了目前ITO纳米粉体的制备方法如:喷雾燃烧法、溶胶凝胶法、水热合成法、化学液相共沉淀法、喷雾热解法、电解法和机械研磨法、燃烧合成法等,分析了不同制备方法的原 铟锡氧化物纳米粉体的制备方法及分散的研究进展 USTB2010年7月8日 合,以大粒径的粉体为骨架,小粒径的粉体作为填 隙物,从而获得了较高的堆积密度,随后经冷等静 压成型,保证了素坯可以获得稳定、均匀的高密度 而采用传统沉淀法制备得到的 ITO 粉体为原料, 一方面由于团聚原因粉体的平均粒径较大,另一方高密度氧化铟锡( ITO) 靶材的制备研究
一种ITO粉体的制备方法CNA PatentGuru
2024年5月7日 本发明属于材料制备技术领域，具体涉及一种ITO粉体的制备方法，包括将设定比例的四水氯化铟和无水乙醇混合均匀，经分散处理后得到混合液；将设定比例的五水氯化锡和无水乙醇混合均匀，经分散处理后得到第二混合液；将混合液和第二混合液混合均匀，经分散处理后得到第三2023年7月8日 7、进一步地，所述步骤1中，ito粉体、无水乙醇、分散剂的mol比为1：40：1 结晶，有效避免铟、锡离子的价态变化，使ITO涂料性能稳定，增加ITO薄膜对衬底的粘附性，制得的ITO薄膜不易气泡、脱落，可以实现在低于150℃环境下制备ITO 一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法及ITO薄膜与流程 2022年3月29日 扫码添加微信，获取更多半导体相关资料本文研究了室温下盐酸和王水溶剂对ITO膜腐蚀行为的影响，在王水中比在盐酸中获得更高的蚀刻速率，然而，通过XPS分析，发现在王水蚀刻剂中比在HCl中有更多的表面残留副产物，在王水和HCl中的表面浓度(氯与铟的比率)分别为72和038，还观察到，由于离子化 溶剂对ITO电极蚀刻的影响 华林科纳（江苏）半导体设备 纳米ITO粉体的制浆工艺利用 x射线 衍 射 分析 所 制 得 的 I O 粉 体 的 晶 T 型 和物相 以及 计算粉 体 的理论粒 径 。利 用透 射 电镜 （ E 来 测 量 粉 体 的 实 际粒 径 和 形 貌 以及 分 散 以 T M）状和 大面积 的制膜 产业化 。 采用 化学 共沉淀 法制 得 纳米ITO粉体的制浆工艺 百度文库
制ito粉设备
2008年3月14日 制ito粉设备 化学共沉淀法制备纳米ITO粉体的研究收费硕士博士论文论文天下 中文名称: 化学共沉淀法制备纳米ITO粉体的研究 全文提供: 购买充值卡,可下载。 分析方法与分析设备 第5760页 本章小结 第6061页 第4章 试验结果。供应ITO粉体、溶液 中国制造2020年3月16日 ITO 是一种N型氧化物半导体氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。 发展 真正进行ITO薄膜的研究工作还是19世纪末，当时是在光电导的材料上获得很薄的金属薄膜。关一文读懂ITO薄膜 知乎2023年4月21日 本发明涉及氧化铟锡(ito)粉体的制造，特别涉及一种zn掺杂氧化铟锡(ito)粉体及其制备方法。背景技术： 1、氧化铟锡(indium tin oxide，ito)是由in2o3固溶sno2形成的n型半导体，具有高可见光透过率、低电阻率的特点， 一种Zn掺杂氧化铟锡粉体及其制备方法 X技术网3 天之前 纳米ITO 粉 （ Indium Tin Oxides）是由氧化铟和氧化锡组成的纳米金属氧化物超微纳米粒子，是优良半导体，具有优异的透明性和导电性，常规产品为 In 2 O 3: SnO 2 =90:10，外观为深蓝色粉末，蓝色 ITO粉还具有阻隔红外线的特 纳米ITO粉体 铟锡氧化物粉体 透明导电/隔热粉剂
一种用ITO废靶重制ITO粉的方法与流程 X技术网
2019年11月27日 本发明属于铟资源回收领域，尤其涉及一种从ito废靶重制ito粉的方法；更具体地，涉及一种利用电化学方法，从溶解有ito废靶的溶液中制备ito粉的方法。背景技术ito溅射靶材是由in2o3和sno2组成的氧化物烧结体，ito靶材镀膜利用率一般仅为60%，余为ito废靶。此外，在ito靶材制备过程中不可避免的会产生 本发明涉及氧化铟锡复合粉体制备技术领域，特别涉及一种以共沉淀法制备ITO粉体的方法。背景技术ITO薄膜可由ITO靶材经磁控溅射法制备得到，在工业生产中，大多采用磁控溅射法，将ITO靶材在玻璃上溅射成极薄的一层透明导电膜(厚度100nm左右)，对薄膜进行刻蚀，以制备平板显示器用的电极材料 一种高分散性ITO粉体的制备方法与流程 X技术网图5 粘结剂含量对ITO造粒粉松装密度和流动性的影响Fig5 Effect of binder content on the packing density and flow ability 用喷雾干燥制得的ITO颗粒制备ITO靶材，发现喷雾干燥得到的ITO颗粒形状规则均匀，具有良好的流动性，ITO靶材的致密度有一定提高。纳米ITO粉末的离心喷雾造粒工艺 百度文库2013年3月1日 I摘要本论文以热等静压制备铟锡氧化物ITO靶材的工艺流程为主线借助热分析TGADTAX射线衍射XRD透射电镜TEM扫描电镜SEM能量分散谱EDS等分析手段系统地研究了球形和针状ITO粉末的制备以及热等静压制备ITO靶材的相关工艺成功地制备了外形规整的密度大于99%的圆柱形ITO靶材综述了ITO靶材市场需求的概况 铟锡氧化物（ITO）粉体及高性能ITO靶材的制备与研究
一种ITO平面靶材及其制备方法与流程 X技术网
2022年8月6日 背景技术： 2o(indium tin oxides)是由氧化铟和氧化锡组成的纳米金属氧化物粉体，具有很好的导电性、透明性、隔热性、防紫外线等性能。ito粉做成的ito靶材是一种电子陶瓷材料，主要用于磁控溅射镀制ito膜。3o靶材分为平面靶材和旋转靶材。2016年3月27日 而获得高品质的ITo粉体是生产优质透明电极材料的关键。 本论文以4N铟、锡锭为原料，以25％氨水为沉淀剂，采用点滴法滴加氨水的方式的化学液相共沉淀法来制备ITO纳米粉体。化学液相共沉淀法制备ITO纳米粉体的工艺研究 豆丁网李锦桥设计出制备ITO靶材的专用设备，将ITO粉体冷等静压压成大块溅 射靶坯体，然后在01~05MPa纯氧环境中，在1500~I600C高温烧结，可以生产 密度达理论密度95%的溅射靶。这种高温高氧烧结炉已由浙江长兴益丰特种溅射 靶窑业有限公司研制成功。ito靶材的制备 百度文库2016年11月9日 IT0(TindopedIndiumOxide)即氧化铟锡，是一种η型半导体材料，使用ITO革巴材，通过真空镀膜等途径制备的ITO薄膜已成为TFT1XD、PDP等平板显示器不可或缺的关键材料，也促使ITO靶材发展成令人瞩目的战略性高科技产业。靶材的品质直接决定薄膜性能的好坏，但国内镀膜厂家使用的高端ITO靶材一直依赖进口 一种制备高性能ito造粒粉的方法 X技术网
喷雾热解法制备ITO粉体的研究*参考网 fx361cc
2016年5月17日 图1为制备ITO粉体实验装置图。图1 微波强化喷雾热解法制备ITO粉体的实验装置图 Fig 1 Schematic diagram of the experimental setup preparing ITO by microwave enhanced ultrasonic spray pyrolysis 122制备ITO粉体工艺流程图 制备ITO粉体工艺流程如图2所2021年6月17日 其主要缺点为：靶材尺寸受设备压力和压缸的限制，制备大尺寸靶材困难。 13粉浆浇筑成形 粉浆浇注是将粉末与其特定的液体制成一定浓度的悬浮粉浆，注入具有所需形状的模具中，通过模具吸水作用使悬浮液固化，制得具一定形状的素坯的一种成形方法。高致密ITO靶材制备工艺的研究现状及发展趋势中国期刊网粉煤灰 制砖设备 生产的产品强度，可达MU20，生产工艺技术水平较高，能耗低，产品广泛用于建筑基础和内外墙体。 粉煤灰制砖设备可大量利用粉煤灰，而且可以利用湿排灰。每生产1m砖至少可用800kg粉煤灰，一个年产5000万块的砖厂可用掉6万吨粉煤灰。这无 粉煤灰制砖设备百度百科2021年1月5日 目前ito粉体的制备方法主要包括化学共沉淀法、水热合成法、溶胶凝胶法、喷雾热分解法等：化学共沉淀法是将铟锡盐溶解制备盐溶液，以碱性溶液为沉淀剂使金属阳离子沉淀得到前驱体，再进行干燥和煅烧制得ito粉体；水热合成法是将处于碱性环境的铟锡盐溶液一种单分散纳米ITO的制备方法与流程 X技术网
高密度氧化铟锡ITO靶材制备工艺的研究进展百度文库
介绍 了ITO 粉 末 的 制 备 方 法 如 机 械 混 合 法、喷 雾 热 分 解 法、喷 雾 燃 烧 法、化 学 共 沉 淀 法、金 属 醇 盐 水 解 法、水 热 合成法等以及ITO 靶材的制备工艺。比较和分析了ITO 粉体和靶材各制备工艺的优缺点。最后 提 出 了 制 备 高 品 质 2019年1月18日 本发明属于材料冶金领域，更具体的，涉及一种热球磨氧化制备超细ITO粉末的方法。背景技术铟锡氧化物(Indiumtinoxide，ITO)具有高透光率、低电阻率、制膜硬度高、良好化学稳定性和蚀刻性能等优点，广泛应用于液晶显示器、太阳能电池、薄膜发光器件、传感器等尖端制造领域。目前的制备方法都是 一种金属铟和金属锡制备超细ITO粉的方法与流程 X技术网2019年8月20日 粉末冶金最核心的竞争力就是粉体，能够独立生产高品质稳定的粉体的公司，会在未来占有一席之地。2、大尺寸烧结工艺 ITO靶材的另一个难点就是烧结工艺，精准的烧结工艺是烧结高品质靶材的关键。3、配套设备浅谈ITO靶材 知乎2024年9月5日 触摸屏技术是现代智能设备的核心交互方式，电容式触摸屏广泛应用于、平板和其他电子设备中。ITO靶材作为透明导电电极，决定了触摸屏的工作效率和体验质量。ITO在电容式触摸屏中的工作原理 电容式触摸屏利用电场变化来感应用户的触摸动作。ITO靶材用途全揭秘：显示技术核心材料，光伏与传感器的关键